提高ZBrush、MARI的技巧

提高ZBrush、MARI的技巧

我的名字是 Francesc Camós，我是 Kandor Graphics 的一名纹理艺术家。我过去常常在家里做个人项目来获得乐趣，但也通过我很少在工作中使用的程序来提高我的技能。做 The Last Stand 的一个很大动机是磨练我的 ZBrush 技能，以及第一次尝试将 MARI 作为主要的纹理程序。

我通过在 Softimage 中创建火车站的代理部分开始了这个项目。这个 3D 草稿让我可以在寻找一个好的构图时使用相机、形状和阴影。

与此同时，我开始在 ZBrush 4R3 中雕刻一位老妇人。我从她的粗略概念开始，这是我在 DynaMesh 中开发的。ZBrush 上次更新的新画笔非常有用，例如我用来制作她的手和头的 InsertMesh 画笔，以及她的裙子和步枪背带的 CurveSurface 画笔（图 01）。图01

图01

随着雕刻的概念变得更加精致和庞大，我将它的不同抽取版本导出到 Softimage。然后我继续玩相机角度，直到我得到一些我觉得舒服的东西。当我要制作静止图像时，这个从 Softimage 中的主要构图到 ZBrush 中角色雕刻的过程为我节省了很多时间（图 02）。图02

图02

一旦那个阶段完成，我就专注于环境。为了详细说明环境的主要资产，例如人行道、木板、石板和砖墙，我再次求助于 ZBrush。我应用了一些砖块、石头和裂缝 alpha 来实现大而细的细节，并使用标准和移动画笔摆脱基础模型的不真实完美（图 03）。图03

图03

所有的 UV 展开都是在 UV Layout 中完成的。尽管 ZBrush 解包工具在最新版本中变得非常强大，但我仍然更喜欢 UV Layout 提供的完全控制，即使 ZBrush 中的雕刻管道变得有点笨拙。

抛开Ptex纹理机制不谈，我相信良好的展开不仅可以在纹理过程中省去很多麻烦，而且可以为良好的纹理建立必要的条件。

我曾经为每个对象创建至少三个纹理贴图：漫反射、镜面反射和凹凸，但在某些情况下，着色器必须使用置换和/或次表面散射贴图进行扩展。所有漫反射贴图都是在 MARI 1.4v1 中完成的，而镜面反射、凹凸和次表面散射图是在 Photoshop CS5 中完成的，置换图是从 ZBrush 中提取的（图 04）。

在很多情况下，镜面反射、SSS，甚至一些凹凸贴图都可以通过它们的漫反射父贴图来提取。我通过在 Photoshop 中以非破坏性方式制作纹理，尽可能多地使用蒙版。这样我几乎可以重用每一层来重新创建镜面反射和次表面散射。

在MARI，我尝试遵循同样的理念；蒙面着色器模块是我的首选。虽然我在后期制作中渲染了一个遮挡过程，但我也使用烘焙遮挡在纹理贴图上添加了一些污垢。在 MARI 中，我利用投影调色板中的遮罩环境遮挡功能直接绘制了一个污垢通道。

场景由主灯、边缘灯、补光灯和 GI 照亮。我渲染了六个主要通道，它们是 AO、DOF、MainLight、ID 蒙版、角色光和填充光（图 05）。图05

图05

我在后期制作中遵循的构图过程可以分为四个步骤：

我的第一步是将所有光线组合在一起，以便在直接照明和填充照明之间取得很好的平衡。我使用角色光通道来突出老妇人，并使用带有步枪 ID 的蒙版层来恢复步枪上几乎消失的一些镜面反射（图 06）。

第二步是应用 Ambient Occlusion pass 并添加一些级别调整，使图像具有更高的对比度。在这里我意识到肤色变得非常饱和，所以我不得不为她的手臂和脸部渲染一个快速的 ID 蒙版以降低饱和度（图 07）。

第三步，我发现画面构图不够，舞台上的阴影变得太暗了，尤其是在左边的角落和楼梯上。铁路路段受到了过多的关注。因此，我画了一些被几个 ID 掩盖的模糊阴影。这部分帮助我实现了我所追求的戏剧性外观。我还恢复了她手臂上在去饱和过程中丢失的一些小细节，并应用了柔和的色彩校正，被 DOF 通道掩盖（图 08）。